多介質(zhì)過濾：去除水中的懸浮顆粒、泥沙等雜質(zhì)。

活性炭過濾：吸附水中的有機(jī)物、余氯等。

軟化處理：去除水中的鈣、鎂等離子，防止在后續(xù)處理過程中產(chǎn)生水垢。

通過半透膜的壓力驅(qū)動(dòng)分離過程，去除水中的大部分離子、有機(jī)物和微生物等。RO 系統(tǒng)能使水的純度大大提高，通常可將原水的電阻率提高到 1-10MΩ?cm。

采用強(qiáng)酸性陽離子交換樹脂去除水中的陽離子，如鈉離子、鈣離子等；采用強(qiáng)堿性陰離子交換樹脂去除水中的陰離子，如氯離子、硫酸根離子等。離子交換過程可以進(jìn)一步提高水的純度，使電阻率達(dá)到 10-15MΩ?cm。

利用超濾膜過濾，去除水中的大分子有機(jī)物、膠體、細(xì)菌等雜質(zhì)，確保超純水的微生物含量極低。

通過紫外線照射，破壞水中微生物的 DNA，達(dá)到殺菌消毒的目的，防止微生物在超純水中滋生。

通常采用微孔過濾器（如 0.22μm 或 0.1μm 的濾芯）進(jìn)行最后的過濾，確保超純水在輸送和使用過程中不被顆粒污染。

在半導(dǎo)體芯片制造過程中，超純水用于清洗硅片、光刻、蝕刻、擴(kuò)散等工藝環(huán)節(jié)。高純度的水可以避免雜質(zhì)對芯片性能的影響，確保芯片的質(zhì)量和可靠性。例如，在光刻過程中，微小的雜質(zhì)顆?？赡軙?huì)導(dǎo)致圖案缺陷，影響芯片的集成度和性能。

用于清洗液晶面板和制造過程中的各種部件。超純水可以保證液晶面板的表面質(zhì)量，防止出現(xiàn)斑點(diǎn)、劃痕等缺陷。同時(shí)，在 LCD 制造過程中，超純水還用于稀釋和調(diào)配各種化學(xué)試劑。

在太陽能電池的制造過程中，超純水用于清洗硅片、制備導(dǎo)電漿料等環(huán)節(jié)。高純度的水可以提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率和穩(wěn)定性。

如電容器、電阻器、印刷電路板等的制造過程中，超純水用于清洗和沖洗工藝，以去除雜質(zhì)和殘留物，保證電子元器件的性能和可靠性。

安裝電阻率檢測儀、TOC 分析儀、顆粒計(jì)數(shù)器等在線監(jiān)測設(shè)備，實(shí)時(shí)監(jiān)測超純水的純度指標(biāo)。一旦發(fā)現(xiàn)指標(biāo)異常，立即采取相應(yīng)的措施進(jìn)行調(diào)整。

按照一定的頻率對超純水進(jìn)行全面的檢測，包括電阻率、TOC、細(xì)菌含量、顆粒計(jì)數(shù)等指標(biāo)。同時(shí)，還需要對制備系統(tǒng)中的各個(gè)環(huán)節(jié)進(jìn)行檢測，確保系統(tǒng)的正常運(yùn)行和超純水的質(zhì)量穩(wěn)定。

定期對超純水制備系統(tǒng)進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)，包括更換濾芯、清洗膜組件、消毒系統(tǒng)等。同時(shí)，要對系統(tǒng)進(jìn)行性能評估，及時(shí)發(fā)現(xiàn)和解決潛在的問題。

隨著電子工業(yè)的不斷發(fā)展，對超純水的純度要求越來越高。未來，超純水的電阻率、TOC 含量等指標(biāo)將進(jìn)一步降低，以滿足更高端電子器件的制造需求。

研發(fā)更加節(jié)能環(huán)保的超純水制備技術(shù)，減少對環(huán)境的影響。例如，采用新型的膜材料和分離技術(shù)，提高水的回收率，降低能源消耗。

開發(fā)智能化的超純水制備控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化監(jiān)測、控制和優(yōu)化。通過大數(shù)據(jù)分析和人工智能技術(shù)，預(yù)測系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)和水質(zhì)變化，提前采取措施進(jìn)行調(diào)整，提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性。