超純水設(shè)備

去離子水設(shè)備概述:

去離子水設(shè)備主要采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、EDI、混床、拋光床等工藝流程，能將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部取出，又能將水中不離解膠體物質(zhì)，氣體和有機(jī)物去除。適用于電子光電、化工冶金、電廠鍋爐、電鍍涂裝行業(yè);精密機(jī)械、汽車工業(yè)及醫(yī)藥純化水等行業(yè)。

去離子水設(shè)備工藝流程:

去離子水設(shè)備技術(shù)原理:

EDI(連續(xù)電解除鹽技術(shù)):

是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)，除鹽率高達(dá)99%，可以生產(chǎn)出電阻率高達(dá)15MΩ.CM以上的超

純水。

FEDI:

獨(dú)立的分段設(shè)計(jì)，進(jìn)水要求低，產(chǎn)水電導(dǎo)率40us/cm以下既可以滿足供水要求，產(chǎn)水導(dǎo)電率可達(dá)0.1us/cm以下，濃水可回收至反滲透系統(tǒng)，綜合回收率高達(dá)90%-

95%。

拋光混床:

一般情況用在工藝末端，用來(lái)進(jìn)一步提高產(chǎn)水水質(zhì)，采用高交換容量、充分再生、無(wú)化學(xué)析出的核子級(jí)樹(shù)脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì)，使水質(zhì)達(dá)到18MΩ.Cm以上。

去離子水設(shè)備參數(shù):

去離子水處理設(shè)備特性:

1、產(chǎn)水水質(zhì)高，出水穩(wěn)定，連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī);

2.自動(dòng)化程度高，遇故障立即自停，具有自動(dòng)保護(hù)功能;

3.先進(jìn)的膜保護(hù)系統(tǒng)，可自動(dòng)沖洗，延長(zhǎng)膜使用壽命，能耗低，水利用率高，運(yùn)行費(fèi)

用及維修成本低;

4.去離子水設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省基建投資。

夫離子水設(shè)備應(yīng)用范圍:

我司生產(chǎn)的去離子水設(shè)備可以用于:制藥行業(yè)用水制取、光電行業(yè)用水制取、精細(xì)化工行業(yè)用水制取、電鍍涂裝行業(yè)用水制取、電子半導(dǎo)體行業(yè)超純水制取、精密機(jī)械行業(yè)用水制取、電廠鍋爐行業(yè)用水制取、代替各類蒸餾水及超純水供水等。

去離子水設(shè)備產(chǎn)品展示: